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洁净室中的温湿度控制列举


洁净室中的温湿度控制列举

具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于东莞净化工程公司加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。

直径100 um的硅片,温度上升1度,东莞净化工程公司就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间不宜超过25度。

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